唐山泥瓦工培训学校

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铝互连工艺始于铝沉积、光刻胶应用以及与显影，随后通过刻蚀有选择地去除任何多余的铝和光刻胶，然后才能进入氧化过程。前述步骤完成后再不断重复光刻、刻蚀和沉积过程直至完成互连。

除了具有出色的导电性，铝还具有容易光刻、刻蚀和沉积的特点。此外，它的成本较低，与氧化膜粘附的效果也比较好。其缺点是容易腐蚀且熔点较低。另外，为防止铝与硅反应导致连接问题，还需要添加金属沉积物将铝与晶圆隔开，这种沉积物被称为“阻挡金属”。

铝电路是通过沉积形成的。晶圆进入真空腔后，铝颗粒形成的薄膜会附着在晶圆上。这一过程被称为“气相沉积 （VD） ”，包括化学气相沉积和物相沉积。

随着半导体工艺精密度的提升以及器件尺寸的缩小，铝电路的连接速度和电气特性逐渐无法满足要求，为此我们需要寻找满足尺寸和成本两方面要求的新导体。铜之所以能取代铝的个原因就是其电阻更低，因此能实现更快的器件连接速度。其次铜的可靠性更高，因为它比铝更能抵抗电迁移，也就是电流流过金属时发生的金属离子运动。

如下图图1所示。可以看到，这一方案在保留了电压控制型的输出电压反馈控制部分外，又增加了一个电流反馈环节。利用升压芯片UC3842所设计的新式电流控制型开关电源，是一个电压、电流双闭环控制系统。其内环为电流控制环，外环为电压控制环。当UO变化导致UF变化，或I变化导致US变化时，都会使PWM电路的输出脉冲占空比发生变化。

在所有电磁感应干扰之中，变压器漏感产生的干扰是严重的。如果把变压器的漏感看成是变压器感应线圈的初级，则其它回路都可以看成是变压器的次级，因此，在变压器周围的回路中，都会被感应产生干扰信号。减少干扰的方法一方面是对变压器进行磁屏蔽，另一方面是尽量减少每个电流回路的有效面积。用铜箔对变压器进行屏蔽。对变压器屏蔽。常作为设备的电源供应器，常见变换分类有：AC-DC电源、DC-DC电源等。开关电源是利用现代电力技术，控制开关晶体管开通和关断的比率，维持稳定输出电压的一种电源，开关电源一般由脉冲宽度调制（PWM）控制IC和MOSFET构成。开关电源的工作过程相当容易理解，在线性电源中，让功率晶体管工作在线性模式，与线性电源不同的是。

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