户县泥瓦工培训学校

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这与著作权中对创作巧合的认可是一致的。具体而言，在对接触的认定上，仅须权利人证明被诉人具有接触布图设计的可能性，而是否存在接触之事实则在所不问。本案中，布图设计的在登记前已投入商业使用，且提供证据证明其法定代表人与之一间存在雇佣关系。据此二事实，认定存在接触布图设计之可能。对于实质性相似的认定，指出，目前尚且没有法定标准可予适用，但对鉴定机构在鉴定意见中所使用的标准予以认可，即“考虑布图的相对、大小、形状、数量结合业内普通技术人员对集成电路布图设计的认识水平作出判断”。基于该标准，本案鉴定意见认为被诉芯片与布图设计构成实质性相似。其认定方式正是从集成电路领域普通技术人员的角度，判断二者在三维配置上是否构成相同或实质性相似。

用于表示组件之间的排列和布局的排列。为了更好地反映组件之间的空间，布局由几个平面几何图形组成，这些图形按一定顺序堆叠。以反映不同元件之间的上下关系，还原集成电路的三维结构。[3]因此，强调布图设计保护的对象只是集成电路的三维配置，即设计结果，而不是设计过程。因此，保护并不涵盖更高抽象层次的功能、逻辑和电路，更不用说比功能更一般的思想了。然而，那些物理布局细节，如“组件分配和排列、组件之间的互连、信息流关系、组合效应等”，可以更好的通过3D图形体现出来，都在版图设计的保护范围之内。从上面的分析可以看出，版图设计是对集成电路中元件的类型和尺寸、元件之间的相对关系以及图案形式的连接关系的物理描述。

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